中国“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蚀机 ， 中微到底有多强？
【中信证券过59.5单,中微】
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我国企业中微成功研制出3nm的刻蚀机 ， 且相关技术已经进入了可以量产应用的阶段 ， 中国芯片有了重大突破 ， 但这也更深刻地揭示出中国面临的、不公正的光刻机之痛 。与名声在外的光刻机相比 ， 刻蚀机的名字确实相对低调 ， 但这并不意味着刻蚀机不重要 ， 只是因为中国已经拥有了先进的刻蚀机技术而已 。客观来说 ， 刻蚀机是与光刻机相提并论的重要芯片加工机器 ， 两者的地位等同 ， 在纳米芯片大规模生产的规程中缺一不可 。
中微在刻蚀机领域的不断研发、不断开创 ， 成功研发3nm刻蚀机确实是一件令人惊喜的好消息 ， 真是振奋人心、振奋士气 。同样具有极高技术水平的刻蚀机设备先来简要地介绍一下刻蚀机 。芯片加工大致可以分为两个粗略的环节 ， 一是把芯片工作所需要的芯片架构刻上去 ， 二是要把可能会干扰芯片工作的无用内容消除掉 。完成第一个工作的设备就是大名鼎鼎的光刻机 ， 目前世界上最顶尖的光刻机企业来自荷兰 ， 而该企业的科技其实是杂交而来的（即融合了多个国家的多个技术）；完成第二个工作的设备就是今天提到的刻蚀机 ， 中国企业在刻蚀机领域一直处于顶尖水平 ， 曾多次突破美国的技术封锁 ， 如今更是再创新高 。
中国刻蚀机成功追超世界顶尖水平 ， 而光刻机依旧被美国卡住了脖子 ， 这种悲剧更深刻地揭示出中国面临的、不公正的、光刻机之痛 。什么样的痛苦？那就是在某些时刻、在某些领域 ， 中国必须依靠自己的力量、依靠14亿人的拼搏 ， 追逐、赶上其他60亿人的工作 。为什么这么说？这就要从刻蚀机与光刻机的异同说起 。很多人都以为刻蚀机的技术要比光刻机简单 ， 但其实并不是这么一回事：光刻机和刻蚀机在技术难度上处于同一水平 ， 只是在技术种类的多与少上有很大的差异 ， 光刻机所需的技术种类要比刻蚀机更多 。
光刻机需要什么？它需要工作台、光矫正器、形状设计装置、能量控制装置、能量探测装置 ， nm级的掩膜设备 ， 高精尖的复杂物镜等多个顶尖的技术设备 ， 涉及到的顶级技术非常多 ， 目前没有任何一个国家可以单独拿出所有的技术 。注意 ， 不只是中国 ， 没有国家在以上所有的光刻机技术领域都处于顶级水平 ， 大家都只是拥有其中的一部分 ， 最后通过不同企业的合作来生产顶级光刻机 。
相比之下 ， 刻蚀机主要依靠基于感应耦合的等离子体刻蚀技术 ， 主要的技术是高精尖的控制系统、各种射频单元、顶级的光谱测量技术、阻抗监控以及探测技术、压力控制以及质量控制器 ， 它所需的顶级技术在数量上相对较少 。因此 ， 中国在经过努力之后 ， 成功追赶上了世界顶级的水平 。刻蚀机和光刻机的对比清楚地告诉我们：不是中国人不努力 ， 不是中国人不聪明 ， 而是中国人需要做的事情太多了 。
中国中微造出3nm刻蚀机 ， 与荷兰ASML光刻机还有多大差距？
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