中科院全固态DUV光源突破:可生产3nm芯片!

中科院全固态DUV光源突破:可生产3nm芯片!

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这是某博主透露的大新闻 , 如果这个消息是真的 , 说实话 , 那么留给美国的时间就不多了 , 因为美国联合所有发达国家在半导体领域对我国进行技术封锁和断供 , 国内企业经过这些年的巨大努力 , 终于把高端芯片生产出来了 , 但生产工艺和国际一流水平相比还有一定差距 , 据说国内最先进的麒麟9020是7nm N+2工艺 , 反观台积电 , 去年就开始大规模生产3nm芯片 , 就在刚刚 , 台积电又宣布2nm芯片良品率突破60% , 今年开始接单 , 差距可想而知 。



该博主说 , 中科院先是激发出1030nm的光 , 然后通过其它方式转变成193nm的光 , 继而实现生产3nm芯片 。 如果说这个报道属实的话 , 那么国产芯片生产技术会迅速缩小和国际先进水平的差距 , 如果我们真的能生产3nm芯片 , 那么第一个遭殃的就是台积电 , 订单骤降是必然的 , 第二个遭殃的是ASML , 以前我们想买高价EUV , 却不肯卖 , 以后就算是求 , 我们也不买了 。 第三个遭殃的是英伟达 , 其凭借台积电先进的生产技术 , GPU芯片卖的贼贵 , 我们还不得不买 , 毕竟根本没有代替品 。 而现在就不好说了 , 一旦国内能生产3nm芯片 , 到时候高端芯片都要被打成白菜价 , 英伟达暴利时代也该结束了 。


【中科院全固态DUV光源突破:可生产3nm芯片!】
虽然这则新闻还没有被中科院证实 , 但也没有辟谣啊 , 其实综合目前的各种消息和案例 , 比如说前不久媒体透露说国产28nm光刻机出口 , 而且最近国外媒体争相报道我国EUV即将量产 , 更重要的是最近新凯来在上海展会上公布5款半导体生产设备 , 最高可以实现生产5nm芯片 , 所以基本确定国产EUV光刻机已经进入最后的交付阶段 。 我相信 , 大家很快就会看到 , 曾经那批在网上说“凭中国一己之力 , 永远造也不出光刻机”这句话的人 , 会被彻底打脸 。 国产EUV一来 , 美国基本上就是侧夜难眠了 , 因为已经没有什么卡脖子的招数了 , 最悲催的还是ASML和台积电 , 到头来还是一无所有 。

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