光刻机是芯片制造的核心设备之一 ， 按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机 ， 同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板 。
【光刻机是干什么用的】光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统等 。常用的光刻机是掩膜对准光刻 ， 所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序 。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶 ， 然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程 。
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