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光刻机 ， 是当前芯片制造流程中 ， 最核心最重要的一环 。 因为几乎所有大规模量产芯片的技术 ， 都离不开光刻 ， 所以就离不开光刻机 。
而为了卡住中国芯片产业的脖子 ， 美国限制ASML将先进的光刻机卖给中国 ， 特别是EUV光刻机 ， 连先进的浸润式DUV ， 也不准卖 。
而光刻机 ， 与芯片工艺是对应的 ， EUV光刻机对应的是7nm以下的芯片制造 ， 而浸润式光刻机 ， 先进的型号 ， 可以制造7nm芯片 。
所以美国的目的很直接 ， 那就是锁住我们 ， 不能往7nm以下工艺进发 ， 因为这样那么先进的芯片我们制造不出来 ， 就得找美国买 ， 美国就卡住我们了 ， 可以获得经济上的 ， 政治上的利益 。
但是经过这么多年的努力 ， 很明显 ， 美国限制ASML的光刻机销售 ， 即将没有意义了 ， 因为我们已经有2个方向 ， 有突破了 ， 未来不需要EUV ， 我们也一样能够制造出5nm芯片出来 。
第一个方向 ， 是NIL纳米压印 ， 佳能之前就制造出来了能制造5nm芯片的纳米压印机 ， 可以替代EUV光刻机的 。
而国内璞璘科技 ， 也制造出了首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备 ， 线宽<10nm ， 可以用于芯片、封测等领域 ， 同样可以制造5nm及以来的芯片 。
第二个方向是EBL电子束技术 ， 浙江大学成果转化基地 ， 推出了首台国产商业化电子束光刻机 “羲之” ， 其精度达 0.6nm、线宽 8nm ， 无需掩膜版 ， 也能够直接制造5nm及以下的芯片 。
这两个方向 ， 都是可以替代EUV光刻机的方向 ， 有了这样的设备 ， 不需要EUV一样能制造先进芯片 。
目前这两种设备 ， 都不是PPT ， 是已经研发出来了 ， 交付给客户在进行测试 ， 以及与相关其它设备的联调 ， 最终建设整个生产线 。
当然 ， 缺点也不是没有 ， 因为芯片制造是一整套的 ， 光刻机只是其中一环 ， 还需要其它设备配合 ， 国内的这两种设备 ， 目前还缺这一整套芯片制造生态 ， 需要一点时间 。
另外就是这两种设备 ， 功率效率上还比不过EUV光刻机 ， 但相信迭代几次后 ， 就能够一定程度上替代EUV了 ， 就像EUV第一代 ， 也不行一样 。
【美国禁售EUV光刻机？即将没有意义了，我们有2个方向突破了】所以说 ， 真的要不了多久 ， 美国不允许ASML将EUV卖给我们 ， 也没有意义 ， 我们可以绕道超定 ， 用另外的方向 ， 制造出自己的先进芯片 ， 到时候所谓的芯片禁令就成废纸 ， 芯片战争彻底结束 。
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