美国网友炮轰中国企业：没有美国许可，中国凭什么敢研发光刻机？realme

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前沿导读在美国知名平台Quora当中，有美国网友发问，在没有美国技术允许的前提下，为什么中国企业敢研发DUV光刻机？

该问题在平台当中引起了剧烈讨论，在各方网友的争论下，很多网友都认为中国企业是在被美国制裁的封锁下，被逼无奈才选择进行自主技术设备的研发。并且美国通过这种制裁压制的手段，为自己塑造了一个“可怕”的竞争对手。
对华限制在多年前，中芯国际曾花费了巨额资金从ASML采购了EUV光刻机，但是由于美国的制裁封锁，该设备最终并没有交付给中国企业。到了2023年，限制措施继续升级，美国对荷兰政府施压，禁止ASML出口给中国企业先进的浸润式DUV光刻机。

在EUV设备与浸润式DUV设备的双重限制下，中国芯片的制造业陷入了瓶颈，无法制造出7nm工艺的先进芯片。
2024年，美国政府向荷兰、德国、韩国、日本等国家的芯片企业施压，禁止相关企业跟中国市场合作，禁止其向中国企业出口制造设备。
与此同时，在美国政府的持续压制下，荷兰政府对ASML公司进行的限制，禁止其为中国客户维修、维护光刻机设备，这导致了中国企业曾经采购的大约1400台芯片制造设备陷入无售后的中断风险。

该限制措施，不但影响了中国企业使用设备的合法权益，而且还对ASML的在华业务造成了严重的负面影响。根据环球网相关报道显示， ASML有将近50%的销售额，均来自于中国市场。
美国试图通过对荷兰政府施压，禁止ASML给中国客户提供设备的零部件更换以及相关的技术支持，以此来在耗材断供上面逐步瘫痪中国的制造设备。荷兰的首相迪克·肖夫称，这一决定是“平衡国家安全与商业利益的必要措施。 ”

2025年，美国的新制裁措施来袭，禁止台积电、三星等晶圆制造企业向中国市场出口超过300亿晶体管数量的成熟芯片，并且同时对日本、荷兰等芯片制造商施压，禁止其向中国企业提供芯片制造所需的材料，以及低端的老旧制造设备。
ASML公司的首席CEO彼得·温宁克曾经对美国的这种做法提出质疑，认为其混淆了国家安全与贸易政策的边界。虽然美国通过制裁措施，成功的压制了中国企业在先进芯片技术上面的研发，但是这种方法会导致中国企业开发出自主的制造设备，从而替代海外的产品。

发展自主技术对于美国的这种对华制裁，有美国的评论家表示：
中国企业如今已经取得了技术突破，而且中国市场是世界上最大的芯片用户市场，中国企业已经掌握了7nm芯片的制造技术，所以在芯片制造领域，中国企业已经解决了技术困境。美国这种做法简直是搬起石头砸自己的脚，让美国企业最大的客户市场成为了最大的竞争对手，我不明白美国到底是怎么想的。

根据浸润式光刻技术的发明人——林本坚在所著书籍《光刻技术》当中的内容表示，使用浸润式的DUV光刻设备制造先进芯片，在技术上面是完全可行的，需要通过多重曝光和自对准多重图案化技术来实现，但是在成本、良品率、能效上面是个极大的问题。

而中国的芯片企业，就是通过以上技术方案，成功实现了7nm芯片的制造。
在此之前，用这种技术方案制造先进芯片成功的企业有两家，一个是英特尔，一个是台积电。但是英特尔投入了大量资源后，无法解决良品率过低的原因，于是英特尔放弃了这个方案，转向了EUV技术。而台积电则成功的解决了量产和能效的问题，并且给华为制造出了麒麟990 4G芯片。

现如今，中国大陆企业是继台积电之后，第二家用DUV设备制造7nm芯片并且成功实现了量产的企业。
并且在自主设备上面，中国的各大高校以及科研院均在许多年前开始了技术储备。北方华创、中微半导体、盛美半导体等领头的制造设备企业，在刻蚀机、清洗机、薄膜沉积设备等多个产品领域，均开发出了自主可控的芯片制造设备，已经在长电科技的生产线当中进行了技术验证。
在光刻机产品上面，中国企业已经完成了干式光刻机的全域开发，并且投入了市场使用，浸润式和EUV技术也在稳步的推进当中。
对于外国平台质疑中国芯片技术的情况，我国的网友在国外平台回复到：