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近日 ， 英特尔表示 ， ASML的首批两台 High NA EUV光刻机已在其工厂“投入生产” ， 比早期型号更可靠 。
作为目前全球最先进的光刻机 ， High NA EUV的售价约3.5亿美元（约人民币25.4亿元） ， 可以说是天价！远高于 ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元 。
图源：英特尔
据悉 High NA EUV 光刻机的高度超过一间会议室 ， 长度远超前一代设备 ， 规格特殊且极其精密 ， 预计每小时可曝光超过185片晶圆 ， 支持2nm以下逻辑芯片及相似晶体管密度的存储芯片量产 。
一季度内生产30000片晶圆 ， 可以生产数千个计算芯片 。
在先进制程芯片制造中导入高数值孔径EUV产品 ， 可简化制程工序、减少光罩数量 ， 达到产能和良率提升 ， 减少制造每片晶圆的能耗 。
在初步测试中 ， ASML的新型High NA EUV设备可靠性大约是上一代的两倍 。 新的ASML EUV设备使用光束将特征打印到芯片上 ， 也可以使用更少的曝光完成与早期设备相同的工作 ， 从而节省时间和钱 。
图源：ASML
英特尔工厂的早期结果表明 ， High NA EUV设备只需一次曝光和“个位数”的处理步骤就可以完成早期设备需要三次曝光和大约40个处理步骤才能完成的工作 。
英特尔计划使用High NA EUV设备来帮助开发Intel 18A（1.8nm）制造技术 ， 该技术计划于今年晚些时候与新一代PC芯片一起量产 。
用时利用High NA EUV设备在2026至2027年间实现Intel 14A制程技术的量产 ， 并在此基础上进一步提升制程技术 。
图源：英特尔
【26亿！天价光刻机，正式投产】英特尔花了七年时间才将这些早期设备投入全面生产 ， 由于时间过长才导致慢慢落后于台积电 ， 目前加速High NA EUV设备进行量产 ， 也是英特尔战略转变的一部分 。
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