快科技7月17日消息 ， 光刻机龙头ASML现在宣布 ， 全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货 。
按照官方的说法 ， EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本 ， 首台买家是英特尔 ， 一台售价近30亿元 。
相比初代High NA EUV光刻机EXE:5000来说 ， EXE:5200拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上） ， 可以更好的为2nm工艺量产做支撑 。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径 ， 比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了 ， 可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式 。
EUV 0.55 NA的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点 ， 这是业内首次部署 ， 随后将采用类似密度的内存技术 。
【30亿元/台！全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺：中国厂商不可能买到】需要注意的是 ， 这种高精尖的光刻机 ， ASML是不可能卖给中国厂商的 ， 这不是钱的问题 ， 而是其他因素 。
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