ASML CEO:中国已研发出自主可控的光刻机

ASML CEO:中国已研发出自主可控的光刻机

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ASML CEO:中国已研发出自主可控的光刻机

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作为全球光刻机巨头 , ASML的一言一行 , 都倍受关注 , 毕竟它是全球唯一能够制造EUV光刻机的厂商 , 其光刻机份额 , 更是超过85% 。
可以说 , 如果ASML不谁给供应光刻机了 , 那么谁的芯片技术 , 将大受影响 , 特别是7nm以下芯片 , 都离不开ASML的EUV光刻机 。

而近日 , ASML CEO富凯 , 面对媒体采访时表示 , 中国已经研发出了一些自主可控的光刻设备 , 虽然在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走 , 但是他认为 , 无论你怎么限制都没有用 , 反而“你试图阻止的人会更加努力地取得成功” 。
其实他的的说法 , 就是直指美国的禁令 , 他的意思是 , 越是限制 , 中国在光刻机技术上发展的可能就会越快 , 设置的障碍越多 , 就会让对方越努力 。
【ASML CEO:中国已研发出自主可控的光刻机】
对ASML而言 , 当然是非常担心中国研发出自己的光刻机的 。
一方面是中国是ASML最大的市场之一 , 一旦中国不买ASML的光刻机 , 那么ASML是直接受影响的 , 所以ASML当然希望自己的光刻机 , 能够敞开供应给中国 , 赚到手里的才是钱 。
第二则是中国一旦研发出光刻机 , 那么将打破整个光刻机格局 , ASML想一家独大就难了 , 要知道团结中国周边可是有很多国家的 , 一旦中国有自主光刻机 , 这些国家肯定会找中国买 , 那ASML怎么办?

那么中国能不能研发出自己的光刻机?事实上 , 中国早就研发出来了 , 不过只是DUV光刻机 , 这种光刻机 , 还达不到浸润式的水平 。
去年的数据显示 , 中国有了氟化氩光刻机 , 分辨率小于等于65nm , 套刻精度小于等于8nm 。
而根据光刻机与芯片工艺的对应关系 , 这种普通的DUV光刻机 , 实际上最多也就生产65nm左右的芯片 , 就算多重曝光 , 也可能在28nm左右 。 所以ASML才会说与ASML还有较远的差距 。

但是ASML明白 , 只要中国肯研发 , 加倍努力 , 并不是研发不出来的 , 毕竟光刻机也是人造的 , 不是神造的 , ASML再封锁 , 美国再封锁 , 总会被研发出来的 。
特别是现在ASML的EUV光刻机 , 也陷入死胡同的情况之下 , ASML在原地踏步 , 中国在后面追 , 追上的可能性还是非常大的 , 所以ASML当然很担心 , 越来越希望美国别禁了 , 这样ASML就可以大量出货 , 一是自己赚钱 , 二是说不定还能够阻挡中国研发 , 毕竟能够买到了 , 情况又不一样了嘛 。

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